| |
ASM
MICROCHEMISTRYN VAATIVA LABORATORIOASENNUS
Suihkuunkaan ei ollut menemistä ennen töitä
Ei ole helppoa keksiä
työmaata, jonne ei saa aamulla mennä suihkun raikkaana.
Sähköpalvelu Kurjen sähköasentajat saivat
tällaisenkin erikoisuuden kokea viimeistellessään
pitkäaikaiselle asiakkaalleen ASM Microchemistrylle uusia
laboratoriotiloja Helsingin yliopiston Kemian laitoksen rakennukseen.
Laboratorioon ei ollut rakennus- ja asennusvaiheessakaan menemistä
miten vain. Toimitusjohtaja Marko Tuominen esittelee kulkuohjeita.
Puolijohdeteollisuudelle piikiekkojen
käsittelyä- ja prosessointilaitteita toimittavan
hollantilaisen ASM konsernin Suomen yksikön ja Kurjen
yhteistyö käynnistyi 1990-luvun puolella sähköasennusten
merkeissä vähä vähältä ASM:n
entisessä toimipaikassa Kilossa.
Viime vuodenvaihteessa ASM:n tutkimusväki muutti Helsingin
Arabiaan ja samalla Helsingin yliopiston kanssa sovittu yhteistyö
käynnisti noin 220 neliön laboratorio- ja puhdastilojen
rakentamisen yliopiston Kemian laitoksen rakennukseen Helsingin
Kumpulan mäelle.
Kurjen työnjohtaja Jorma Juvonen on vastannut ASM:n laboratoriyksikön
sähköistyksestä.
- Kyllä tämä on ollut urani vaativimpia työmaita,
mm. yleisen 220 V:n jännitteen rinnalle on rakennettu
110 V:n verkko japanilaisia järjestelmiä varten.
Myös ilmastointitekniikka meni uusiksi, täällä
ei ollut valmiina tarvittavaa kapasiteettia. Tämä
on taloteknisesti vaativa kohde, esittelee Juvonen työmaataan
A. I. Virtasen aukiolla Kumpulan mäellä.
Tilojen puhtausastetta on nostettu vaiheittain työn edistyessä.
Loppuvaiheessa puhdastilassa työskentelemisen vaatimukset
ovat kovat.
- Puhdastilojen sähköasennusten aikana ei esimerkiksi
saa aamulla käydä suihkussa, jotta kuiva iho ei
hilseile. Samoin tupakointi on kiellettyä neljä
tuntia ennen töitä, työkalut ja kaapelit on
pesty ja ovista ei voi kulkea miten vaan edes takaisin, luonnehtii
Jorma Juvonen työmaalla ahertaneiden 4-6:n sähköasentajan
työskentelyvaatimuksia puhdastilavaiheessa.
ASM Microchemistryn tohtorit Suvi Haukka ja Marko Tuominen.
Suvi Haukalla käsissään 300 mm:n Si-kiekko,
johon ALD-tekniikalla on kasvatettu alumiinioksidiohutkalvo.
Nämä isommat kiekot ovat korvaamassa 200 mm:n Si-kiekot
puolijohdeteollisuuden tuotannossa. Kiekoille kasvatetaan
mikroprosessoti- ja muistirakenteet.
|
|
